聚焦離子束（FocusedIonBeam，F(xiàn)IB）是微納加工、芯片失效分析、微結構科學研究的核心技術裝備之一。隨著材料、器件的微尺度化（納米甚至原子尺度）、高集成化（每平方厘米集成10億個以上的功能單元）、多功能化（在多種外場條件下工作），越來越多的材料微結構研究、器件研發(fā)須使用聚焦離子束。全書共分七章，從聚焦離子束的結構原理出發(fā)，緊密結合應用與實踐，對聚焦離子束誘導沉積、濺射刻蝕、離子注入、離子束曝光、聯(lián)合使用模式以及樣品的前期處理進行闡述，并配有實際案例進行進一步詳解。

本書介紹了高功率激光與固體薄靶相互作用而驅動離子加速的幾種物理機制理論的基本物理圖像，重點探討如何有效抑制傳統(tǒng)光壓加速過程中的橫向不穩(wěn)定性，如何延長加速過程，如何提高激光到離子的能量轉換效率等；并介紹了預脈沖導致靶材預擴張對離子加速過程的影響等方面的研究。在激光離子加速實驗方面，本書重點介紹了控制束流傳輸和靶材制備相關技術。最后，本書介紹了激光離子加速的一些在科學技術研究和實際生活中的重要潛在應用。

本專著主要介紹受控核聚變托卡馬克裝置真空室、磁體、電源、控制、中性束注入和射頻波加熱等系統(tǒng)的基本結構、工作原理和設計方法。內容涵蓋核聚變、產生核聚變的裝置、撕裂模、新經典撕裂模、電阻壁模、邊緣局域模及其控制、誤差場修正、人工智能在等離子體大破裂和聚變等離子體中數(shù)據(jù)分析的應用，同時簡要介紹了與此相關的國內外主要托卡馬克裝置的發(fā)展概況和研究進展。 本專著適合高校學生、研究生和從事托卡馬克工程技術的科研人員以及對受控核聚變研究有興趣的其他人員學習和參考。