本書是相關(guān)行業(yè)的專利分析報告。報告從該行業(yè)的專利（國內(nèi)、國外）申請、授權(quán)、申請人的已有專利狀態(tài)、其他先進國家的專利狀況、同領(lǐng)域領(lǐng)先企業(yè)的專利壁壘等方面入手，充分結(jié)合相關(guān)數(shù)據(jù)，展開分析，并得出分析結(jié)果。本書是了解該行業(yè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀并預(yù)測未來走向，幫助企業(yè)做好專利預(yù)警的必備工具書。
特定產(chǎn)業(yè)的國內(nèi)外知名企業(yè)的專利數(shù)據(jù)分析及行業(yè)分析預(yù)測。本書是了解相關(guān)行業(yè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀并預(yù)測為了走向，企業(yè)做好專利預(yù)警的必備工具書。
2018年是我國改革開放40周年，也是《國家知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略綱要》實施12周年。在習(xí)近平新時代中國特色社會主義思想的引領(lǐng)下，為全面貫徹習(xí)近平總書記關(guān)于知識產(chǎn)權(quán)工作的重要指示和黨中央、國務(wù)院決策部署，努力提升專利創(chuàng)造質(zhì)量、保護效果、運用效益和管理水平，國家知識產(chǎn)權(quán)局繼續(xù)組織開展專利分析普及推廣項目，圍繞國家重點產(chǎn)業(yè)的核心需求開展研究，為推動產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展提供有力支撐。
十年歷程，項目在力踐普及方法、培育市場、服務(wù)創(chuàng)新宗旨的道路上鑄就品牌的廣泛影響力。為了秉承源于產(chǎn)業(yè)、依靠產(chǎn)業(yè)、推動產(chǎn)業(yè)的工作原則，更好地好地服務(wù)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展，2018年項目再求新突破，首次對外公開申報，引導(dǎo)和鼓勵具備相應(yīng)研究能力的社會力量承擔(dān)研究工作，得到了社會各界力量的積極支持與響應(yīng)。經(jīng)過嚴(yán)格的立項審批程序，最終選定13個產(chǎn)業(yè)開展研究，來自這些產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的企業(yè)、科研院所、產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟等25家單位或單獨或聯(lián)合承擔(dān)了具體研究工作。組織近200名研究人員，歷時6個月，圓滿完成了各項研究任務(wù)，形成一批高價值的研究成果。項目以示范引領(lǐng)為導(dǎo)向，最終擇優(yōu)選取6項課題報告繼續(xù)以《產(chǎn)業(yè)專利分析報告》（第65～70冊）系列叢書的形式出版。這6項報告所涉及的產(chǎn)業(yè)包括新一代人工智能、區(qū)塊鏈、第三代半導(dǎo)體、人工智能關(guān)鍵技術(shù)之計算機視覺和自然語言處理、高技術(shù)船舶、空間機器人，均屬于我國科技創(chuàng)新和經(jīng)濟轉(zhuǎn)型的核心產(chǎn)業(yè)。
方法創(chuàng)新是項目的生命力所在，2018年項目在加強方法創(chuàng)新的基礎(chǔ)上，進一步深化了關(guān)鍵技術(shù)專利布局策略、專利申請人特點、專利產(chǎn)品保護特點、專利地圖等多個方面的研究。例如，新一代人工智能課題組首次將數(shù)學(xué)建模和大數(shù)據(jù)分析方式引入專利分析，構(gòu)建了動態(tài)的地域-技術(shù)熱度混合專利地圖；第三代半導(dǎo)體課題組對英飛凌公司的專利布局及運用策略進行了深入分析；區(qū)塊鏈課題組嘗試了以應(yīng)用場景為切入點對涉及的關(guān)鍵技術(shù)進行了全面梳理。
項目持續(xù)穩(wěn)定的發(fā)展離不開社會各界的大力支持。2018年來自社會各界的近百名行業(yè)技術(shù)專家多次指導(dǎo)課題工作，為課題順利開展作出了貢獻。各省知識產(chǎn)權(quán)局、各行業(yè)協(xié)會、產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟等在課題開展過程中給予了極大的支持�！懂a(chǎn)業(yè)專利分析報告》（第65～70冊）凝聚社會各界智慧，旨在服務(wù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。希望各地方政府、各相關(guān)行業(yè)、相關(guān)企業(yè)以及科研院所能夠充分發(fā)掘《產(chǎn)業(yè)專利分析報告》的應(yīng)用價值，為專利信息利用提供工作指引，為行業(yè)政策研究提供有益參考，為行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新提供有效支撐。
由于《產(chǎn)業(yè)專利分析報告》中專利文獻的數(shù)據(jù)采集范圍和專利分析工具的限制，加之研究人員水平有限，其中的數(shù)據(jù)、結(jié)論和建議僅供社會各界借鑒研究.
國家知識產(chǎn)權(quán)局學(xué)術(shù)委員會為國家知識產(chǎn)權(quán)局內(nèi)設(shè)的專利審查業(yè)務(wù)學(xué)術(shù)研究機構(gòu)，本年度10種分析報告的承辦方為優(yōu)選的各地專利代理事務(wù)所、律師事務(wù)所以及相關(guān)行業(yè)協(xié)會。每種報告的課題組約由20人組成，分別進行數(shù)據(jù)收集、整理、分析、制圖、審核、統(tǒng)稿。
目
錄
第1章
緒 論
1.1 技術(shù)背景
1.2 主要內(nèi)容
1.2.1 技術(shù)現(xiàn)狀
1.2.2 市場現(xiàn)狀
1.2.3 政策現(xiàn)狀
1.3 主要研究內(nèi)容
1.3.1 技術(shù)分解
1.3.2 數(shù)據(jù)來源及檢索策略
1.3.3 查全查準(zhǔn)驗證
1.4 相關(guān)約定
1.4.1 專利分析術(shù)語
1.4.2 技術(shù)術(shù)語
第2章
第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全球?qū)＠麘B(tài)勢
2.1 專利申請趨勢
2.1.1 碳化硅專利申請趨勢
2.1.2 氮化鎵專利申請趨勢
2.1.3 其他材料專利申請趨勢
2.2 全球?qū)＠麉^(qū)域分布
2.2.1 國家/地區(qū)分布
2.2.2 專利流向分析
2.2.3 在華分布情況
2.3 主要申請人排名
2.3.1 全球?qū)＠暾埲伺琶?/p>
2.3.2 在華專利申請人排名
2.4 技術(shù)構(gòu)成
2.4.1 全球技術(shù)構(gòu)成
2.4.2 主要國家/地區(qū)技術(shù)構(gòu)成對比
第3章
碳化硅關(guān)鍵技術(shù)專利分析
3.1 碳化硅制備技術(shù)分析
3.1.1 專利申請趨勢
3.1.2 主要國家/地區(qū)專利布局對比
3.1.3 主要申請人分析
3.1.4 單晶生長技術(shù)發(fā)展路線
3.1.5 外延生長技術(shù)發(fā)展路線
3.1.6 技術(shù)生命周期分析
3.2 碳化硅器件技術(shù)分析
3.2.1 專利申請趨勢
3.2.2 主要國家/地區(qū)專利布局對比
3.2.3 主要申請人分析
3.2.4 碳化硅IGBT技術(shù)發(fā)展路線
3.2.5 技術(shù)生命周期分析
3.3 碳化硅應(yīng)用技術(shù)分析
3.3.1 專利申請趨勢
3.3.2 主要國家專利布局對比
3.3.3 主要申請人分析
3.3.4 技術(shù)生命周期分析
第4章
氮化鎵關(guān)鍵技術(shù)專利分析
4.1 氮化鎵制備技術(shù)分析
4.1.1 專利申請趨勢
4.1.2 主要國家/地區(qū)專利布局對比
4.1.3 主要申請人分析
4.1.4 氮化鎵技術(shù)發(fā)展路線
4.1.5 技術(shù)生命周期分析
4.2 氮化鎵器件和應(yīng)用技術(shù)分析
4.2.1 專利申請趨勢
4.2.2 主要國家/地區(qū)專利布局對比
4.2.3 主要申請人分析
4.2.4 MicroLED技術(shù)發(fā)展路線
4.2.5 技術(shù)生命周期分析
第5章
英飛凌專利布局及運用策略分析
5.1 發(fā)展歷程
5.2 專利布局
5.2.1 專利申請趨勢
5.2.2 專利區(qū)域布局
5.2.3 專利主題布局
5.3 主要研發(fā)團隊
5.3.1 研發(fā)團隊總覽
5.3.2 研發(fā)合作分析
5.4 專利運用
5.4.1 專利運用圖譜
5.4.2 專利運用策略
第6章
科銳專利布局及運用策略研究
6.1 發(fā)展歷程
6.2 專利布局
6.2.1 專利申請趨勢
6.2.2 專利區(qū)域布局
6.2.3 專利主題布局
6.3 主要研發(fā)團隊
6.3.1 研發(fā)團隊總覽
6.3.2 研發(fā)合作分析
6.4 專利運用
6.4.1 專利運用圖譜
6.4.2 專利運用策略
第7章
第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域主要發(fā)明人分析
7.1 發(fā)明人全景分析
7.1.1 全球主要發(fā)明人
7.1.2 技術(shù)分支主要發(fā)明人
7.2 國外主要發(fā)明人
7.2.1 國外發(fā)明人
7.2.2 技術(shù)分支主要發(fā)明人
第8章
第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)＠D(zhuǎn)讓策略研究
8.1 專利轉(zhuǎn)讓態(tài)勢分析
8.1.1 專利轉(zhuǎn)讓趨勢
8.1.2 專利轉(zhuǎn)讓主要區(qū)域
8.1.3 專利轉(zhuǎn)讓人排名
8.1.4 專利受讓人
8.1.5 專利轉(zhuǎn)讓技術(shù)排名
8.2 英飛凌專利轉(zhuǎn)讓案例分析
第9章
第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)＠S可策略研究
9.1 專利許可分析
9.1.1 專利許可趨勢
9.1.2 專利許可人排名
9.1.3 專利被許可人
9.1.4 專利許可技術(shù)排名
9.2 科銳專利許可案例分析
第10章
第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)＠V訟策略研究
10.1 專利訴訟態(tài)勢分析
10.1.1 專利訴訟主要國家/地區(qū)
10.1.2 專利訴訟人排名
10.1.3 專利訴訟技術(shù)排名
10.2 專利訴訟案例分析
10.2.1 科銳vs.旭明光電
10.2.2 威科vs.中微半導(dǎo)體
10.3 專利訴訟策略小結(jié)
第11章
美國政府資助項目知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)出機制研究
11.1 項目簡介
11.2 美國政府資助項目專利產(chǎn)出機制
11.3 美國政府資助典型案例分析
第12章
主要結(jié)論和建議
12.1 主要結(jié)論
12.2 主要建議
附錄
美國政府資助項目碳化硅領(lǐng)域主要專利
圖索引
表索引
書單推薦
