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二次電子發(fā)射理論及應(yīng)用

二次電子發(fā)射理論及應(yīng)用

定  價:76 元

叢書名:國家出版基金項目 “十四五”時期國家重點出版物出版專項規(guī)劃項目·重大出版工程 空間

        

  • 作者:封國寶 崔萬照 王芳 苗光輝 著
  • 出版時間:2022/7/1
  • ISBN:9787576314144
  • 出 版 社:北京理工大學(xué)出版社
  • 中圖法分類:O462.2 
  • 頁碼:0
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:
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讀者對象:本書面向物理學(xué)、物理電子學(xué)和計算物理學(xué)等專業(yè)的本科生或研究生, 以及從事等離子體、微波大功率放電和表面微分析等領(lǐng)域的研究人員

"本書的內(nèi)容主要聚焦于二次電子發(fā)射的理論模型和相關(guān)應(yīng)用方面,在部分章節(jié)列舉了幾個典型案例展開討論。本書的內(nèi)容涵蓋了二次電子的發(fā)射理論模型、測量、數(shù)據(jù)結(jié)果、表面工藝、介質(zhì)帶電分析以及典型應(yīng)用場景介紹。內(nèi)容涉及粒子物理理論、仿真算法、磁流體力學(xué)、表面工藝、表面表征等多領(lǐng)域。
本書共分為六章,其中,第一章為緒論,介紹了二次電子發(fā)射和與此相關(guān)的介質(zhì)帶電概念和現(xiàn)狀。第二章中主要介紹了四種主要的二次電子發(fā)射模型,以及分別針對導(dǎo)電金屬和導(dǎo)電不良體的介質(zhì)研制的測試平臺,除此之外,還列出了部分典型金屬和介質(zhì)材料的二次電子發(fā)射數(shù)據(jù)。本書的第三部分介紹了常用的二次電子發(fā)射表面調(diào)控技術(shù),列舉了幾種用于抑制二次電子發(fā)射的表面陷阱結(jié)構(gòu)和用于表面調(diào)控的材料工藝。第四部分介紹了電子轟擊表面的帶電效應(yīng)和二次電子發(fā)射在帶電狀態(tài)下的動態(tài)特性。第五部分簡要敘述了電子轟擊對材料的影響。第六部分講述了二次電子發(fā)射在微波部件微放電和電子顯微成像領(lǐng)域的應(yīng)用,并展開了一些分析。
本書面向物理學(xué)、物理電子學(xué)和計算物理學(xué)等專業(yè)的本科生或研究生,以及從事等離子體、微波大功率放電和表面微分析等領(lǐng)域的研究人員,除此之外,本書提供了大量的材料基礎(chǔ)數(shù)據(jù),還可為相關(guān)工程設(shè)計領(lǐng)域的工程師提供參考和借鑒。
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