本書主要內(nèi)容包括偽裝隱身基本概念、偽裝隱身技術發(fā)展歷史及發(fā)展趨勢、目標與環(huán)境光電特性采集與分析處理技術、迷彩圖案設計技術、信息偽裝隱身技術、電磁偽裝技術、干擾偽裝技術、示假偽裝技術、仿生偽裝技術、外加式偽裝隱身技術、內(nèi)在式偽裝隱身技術、自適應偽裝隱身技術、等離子體偽裝隱身技術、高光譜偽裝隱身技術等。