第1章 光計算技術(shù)概述
1.1 計算發(fā)展史及發(fā)展趨勢
1.1.1 原始計算時代
1.1.2 手工計算時代
1.1.3 機(jī)械和機(jī)電計算時代
1.1.4 電子計算時代
1.1.5 超級并行計算機(jī)現(xiàn)狀及其發(fā)展
1.1.6 未來計算機(jī)技術(shù)發(fā)展展望
1.2 光計算概念及涵義
1.2.1 光學(xué)基本數(shù)字運算操作
1.2.2 光計算機(jī)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)基本模型
1.3 光學(xué)計算處理基礎(chǔ)
1.3.1 全息光柵
1.3.2 光學(xué)傅里葉變換
1.3.3 阿貝成像原理與空間濾波
1.3.4 光學(xué)相關(guān)器
1.3.5 光學(xué)數(shù)字處理
參考文獻(xiàn)
第2章 半導(dǎo)體多量子阱光電子邏輯器件
2.1 半導(dǎo)體多量子阱基本原理
2.1.1 微納材料與量子局限效應(yīng)
2.1.2 半導(dǎo)體多量子阱與自電光效應(yīng)
2.2 自電光效應(yīng)器件基本原理與特性
2.2.1 如何實現(xiàn)自電光效應(yīng)
2.2.2 二極管偏置自電光效應(yīng)器件實現(xiàn)雙穩(wěn)態(tài)
2.2.3 對稱自電光效應(yīng)器件
2.2.4 對稱自電光效應(yīng)器件實現(xiàn)邏輯運算
2.3 多量子阱調(diào)制器的優(yōu)化及特性
2.3.1 反射型調(diào)制器
2.3.2 非對稱F-P反射型調(diào)制器
2.3.3 多量子阱調(diào)制器性能
2.4 面陣集成自電光效應(yīng)陣列器件
2.4.1 多量子阱調(diào)制器和電子電路的集成-靈巧像素
2.4.2 多量子阱空間光調(diào)制器
2.5 總結(jié)及展望
參考文獻(xiàn)
第3章 光計算中的微型光源
3.1 概述
3.2 側(cè)面發(fā)射光電子器件
3.2.1 LED與LD
3.2.2 功能光互連與半導(dǎo)體光源的發(fā)展
3.3 LED及LD模式垂直表面發(fā)射光源的結(jié)構(gòu)及原理
3.3.1 LED模式垂直表面發(fā)射光源結(jié)構(gòu)和功能特點
3.3.2 LD模式垂直表面發(fā)射光源初步
3.3.3 垂直表面發(fā)射光源的集成
3.4 VCSELs激光器
3.4.1 VCSELs的結(jié)構(gòu)
3.4.2 VCSELs特性
3.4.3 VCSELs的優(yōu)化設(shè)計
3.4.4 VCSELs的進(jìn)展及趨勢
3.5 微型激光器的應(yīng)用
3.5.1 光學(xué)邏輯器件
3.5.2 串行一并行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換
3.5.3 并行光數(shù)據(jù)連接
3.6 總結(jié)及展望
參考文獻(xiàn)
第4章 微光學(xué)與衍射光學(xué)元件
4.1 引言
4.2 微光學(xué)元件設(shè)計
4.2.1 幾何光學(xué)設(shè)計
4.2.2 設(shè)計的標(biāo)量分析
4.2.3 設(shè)計的矢量分析
4.3 微光學(xué)元件的加工技術(shù)
4.3.1 離子交換制備技術(shù)
4.3.2 利用相位掩膜的模擬光刻蝕技術(shù)
4.3.3 電子?xùn)|納米光刻制造技術(shù)
4.4 平面微透鏡陣列及其應(yīng)用
4.4.1 膨脹結(jié)構(gòu)的平面微透鏡
4.4.2 微透鏡陣列應(yīng)用
4.5 衍射光學(xué)元件的理論基礎(chǔ)
4.5.1 線性閃耀光柵
4.5.2 衍射透鏡
4.5.3 衍射效率
4.6 二元光學(xué)元件
4.6.1 二元光學(xué)元件的設(shè)計
4.6.2 二元光學(xué)元件的制作
4.6.3 二元光學(xué)元件的應(yīng)用
4.7 總結(jié)及展望
參考文獻(xiàn)
第5章 光學(xué)存儲器件
5.1 概述
5.2 雙光子吸收原理及其應(yīng)用
5.2.1 雙光子過程
5.2.2 利用雙光子過程進(jìn)行3D讀寫
5.3 光折變效應(yīng)及空間光調(diào)制器
5.3.1 光折變效應(yīng)及光折變晶體
5.3.2 光折變光尋址空間光調(diào)制器
5.3.3 光折變空間光調(diào)制器的圖像操作
5.4 光學(xué)全息存儲
5.4.1 光學(xué)全息存儲概述
5.4.2 光學(xué)體全息存儲
5.5 近場光學(xué)存儲
5.5.1 超分辨近場結(jié)構(gòu)光存儲概述
5.5.2 超分辨存儲實現(xiàn)的基本原理
5.5.3 超分辨掩膜的近場光學(xué)特性
5.6 光學(xué)存儲器件展望
參考文獻(xiàn)
第6章 并行光互連
6.1 概述
6.2 光交換與光互連網(wǎng)絡(luò)初步
6.2.1 光交換技術(shù)簡介
6.2.2 光互連網(wǎng)絡(luò)技術(shù)簡介
6.3 全混洗變換的基本理論與分析
6.3.1 PS變換的基本理論
6.3.2 二維全混洗變換的理論
6.3.3 PS及FPS變換的實現(xiàn)方法
6.4 微光學(xué)元件實現(xiàn)全混洗變換
6.4.1 微閃耀光柵陣列實現(xiàn)左混洗變換
6.4.2 微閃耀光柵實現(xiàn)RPS和IPS混洗變換
6.4.3 微閃耀光柵面陣實現(xiàn)二維全混洗變換
6.5 采用微光學(xué)元件的光互連模塊
6.5.1 微光學(xué)元件在Omega光互連網(wǎng)絡(luò)中的應(yīng)用設(shè)計
6.5.2 利用微光學(xué)元件設(shè)計全交叉光網(wǎng)絡(luò)模塊
6.5.3 利用微光學(xué)元件構(gòu)建二維榕樹網(wǎng)絡(luò)
6.5.4 微閃耀光柵解復(fù)用器與分束器設(shè)計
6.6 總結(jié)及展望
參考文獻(xiàn)
第7章 光緩存與全光同步技術(shù)前沿
7.1 概述
7.2 基于慢光原理的光學(xué)緩存與同步
7.2.1 慢光基本原理
7.2.2 慢光技術(shù)介紹
7.3 光緩存與同步技術(shù)展望
參考文獻(xiàn)