本書系統(tǒng)介紹了人工晶體生長(zhǎng)的基礎(chǔ)理論和相圖技術(shù)，在此基礎(chǔ)上全面介紹了人工晶體生長(zhǎng)主流技術(shù)如水溶液法、助熔劑法、水熱法、焰熔法、提拉法和坩堝下降法等，詳細(xì)介紹了上述人工晶體生長(zhǎng)技術(shù)的基本原理、設(shè)備設(shè)計(jì)與構(gòu)造、生長(zhǎng)工藝以及它們的優(yōu)缺點(diǎn)等。同時(shí)，作者結(jié)合自身多年科研工作成果積累，選擇性介紹了幾種重要的光電子晶體材料的生長(zhǎng)技術(shù)

隨著計(jì)算機(jī)科學(xué)的飛速發(fā)展，計(jì)算機(jī)模擬手段已在物理學(xué)的研究中發(fā)揮著重要作用。近年來(lái)，作為探索新材料的有效途徑，晶體結(jié)構(gòu)預(yù)測(cè)方法日益受到廣泛關(guān)注。本書以作者多年的研究成果為基礎(chǔ)，結(jié)合國(guó)內(nèi)外**研究進(jìn)展，梳理和總結(jié)了晶體結(jié)構(gòu)預(yù)測(cè)方法在新型功能材料設(shè)計(jì)領(lǐng)域及地球物理領(lǐng)域的研究現(xiàn)狀和應(yīng)用。本書主要介紹了晶體結(jié)構(gòu)預(yù)測(cè)方法及其在超硬

相變晶體學(xué)是定量理解兩相晶體的位向關(guān)系、相變產(chǎn)物形貌、相界面法向、相界面微觀結(jié)構(gòu)以及相變引起的應(yīng)變場(chǎng)等晶體學(xué)特征的重要手段。相變晶體學(xué)特征還與相變熱力學(xué)、相變動(dòng)力學(xué)、新相周圍的約束以及界面成分等因素密切相關(guān)。因此，相變晶體學(xué)對(duì)深入理解材料組織形成，進(jìn)而科學(xué)地預(yù)測(cè)和控制材料組織生長(zhǎng)和特性具有重要的指導(dǎo)意義。 本書將相界面

氮化鎵單晶材料生長(zhǎng)與應(yīng)用正在快速發(fā)展，本書以作者所在團(tuán)隊(duì)多年來(lái)的研究工作為基礎(chǔ)，并作了大量擴(kuò)展和補(bǔ)充，呈現(xiàn)了該領(lǐng)域的最新研究成果。具體來(lái)說(shuō)，本書分八章內(nèi)容詳細(xì)介紹了氮化鎵單晶材料生長(zhǎng)的基本原理、技術(shù)方法、發(fā)展現(xiàn)狀及應(yīng)用趨勢(shì)。本書系統(tǒng)性強(qiáng)，有較完整的專業(yè)知識(shí)講解，實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)豐富。雖然本書所涉及內(nèi)容沒有涵蓋氮化鎵單晶材料生長(zhǎng)

本書系統(tǒng)介紹液晶材料的合成、純化及分析表征技術(shù)。首先介紹液晶材料性能及表征方法，液晶顯示模式對(duì)液晶材料的要求，以及液晶材料的設(shè)計(jì)合成與應(yīng)用前景等；其次介紹環(huán)己烷類液晶材料、萘衍生物液晶材料、橋鍵類液晶材料、含氟液晶材料、端烯液晶材料、雜環(huán)液晶材料，以及手性液晶材料關(guān)鍵基團(tuán)的構(gòu)建合成設(shè)計(jì)與典型反應(yīng)、分離及表征方法、結(jié)構(gòu)與

結(jié)晶化學(xué)導(dǎo)論（第4版）

本書將礦物材料與固廢資源高效開發(fā)利用緊密結(jié)合，闡述了脫硫石膏在酸性低鹽溶液中水熱制備晶須涉及的理論與技術(shù)。內(nèi)容包括：無(wú)機(jī)鹽添加劑對(duì)脫硫石膏溶液組成和晶須制備的影響、晶須制備宏觀參數(shù)與微觀參數(shù)之間定量關(guān)系、脫硫石膏晶須水熱生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)、無(wú)機(jī)鹽陰陽(yáng)離子作用機(jī)理、晶須晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化規(guī)律、脫硫石膏晶須綠色制備與應(yīng)用探索等。

本書介紹了液封提拉法生長(zhǎng)晶體技術(shù)的特點(diǎn)及研究現(xiàn)狀、藍(lán)寶石單晶生長(zhǎng)技術(shù)的現(xiàn)代趨勢(shì)和應(yīng)用進(jìn)展,重點(diǎn)討論了基于液封提拉法制備藍(lán)寶石晶體、硅單晶的熱毛細(xì)對(duì)流的線性穩(wěn)定性分析方法,給出了微重力條件下、常重力條件下,5cSt硅油/HT-70、B2O3/藍(lán)寶石熔體工質(zhì)對(duì)在上部為自由表面的熱毛細(xì)對(duì)流、上部為自由表面的浮力-熱毛細(xì)對(duì)流、

Fe4N材料屬于新型功能材料,在自旋電子學(xué)、微電子學(xué)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值,本書可以使讀者對(duì)Fe4N材料進(jìn)行詳細(xì)的了解,稿件從引言、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N多晶薄膜、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N外延薄膜、摻雜對(duì)Fe4N薄膜的影響、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N/半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N-反鐵磁性異質(zhì)結(jié)構(gòu)、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N基多

本書主要分為兩大部分：第一部分全面總結(jié)研究特別是我國(guó)30年來(lái)含氟液晶研究進(jìn)展，并介紹液晶的分類，液晶的分子理論，液晶相變與測(cè)試方法，液晶分子結(jié)構(gòu)與液晶性，液晶的氟化學(xué)等；第二部分重點(diǎn)闡述各種含氟液晶的特點(diǎn)、合成方法及應(yīng)用，比如甾類液晶、含氟非極性液晶、含氟極性液晶、含氟鐵電液晶、含氟偶氮液晶、聚合物梳形含氟液晶等。