本書的前半部分介紹了離子遷移譜技術(shù)的基本原理、發(fā)展歷程，對離子遷移譜中的關(guān)鍵部件、關(guān)鍵參數(shù)的設(shè)計方法進行了系統(tǒng)論述，然而隨著技術(shù)的進步，不同的應(yīng)用場合對離子遷移譜的基本參數(shù)要求有很大的不同，本書的后半部分從應(yīng)用出發(fā)針對不同的應(yīng)用場合討論了具體的實現(xiàn)方法，并對離子遷移譜的發(fā)展前景進行了展望。本書意在為從事離子遷移譜開發(fā)的專業(yè)人士提供理論支撐。